• <menuitem id="lt00r"></menuitem>
      1. <menuitem id="lt00r"></menuitem>
        <ins id="lt00r"><video id="lt00r"><var id="lt00r"></var></video></ins>

        1. <output id="lt00r"><nobr id="lt00r"></nobr></output>
          <tr id="lt00r"></tr>
        2. <output id="lt00r"><nobr id="lt00r"></nobr></output>
        3. <tr id="lt00r"></tr>
          <tbody id="lt00r"></tbody>
        4. <ins id="lt00r"></ins>

        5. <track id="lt00r"><acronym id="lt00r"><pre id="lt00r"></pre></acronym></track>

          1. <tr id="lt00r"><nobr id="lt00r"><delect id="lt00r"></delect></nobr></tr>
            <tr id="lt00r"></tr>

          2. <noframes id="lt00r"><small id="lt00r"></small></noframes>
            <tr id="lt00r"></tr>

            1. <tr id="lt00r"><nobr id="lt00r"><ol id="lt00r"></ol></nobr></tr>
                <menuitem id="lt00r"></menuitem>

                1. <output id="lt00r"><nobr id="lt00r"><delect id="lt00r"></delect></nobr></output>
                2. <menuitem id="lt00r"></menuitem>
                3. <menuitem id="lt00r"></menuitem>
                4. 歡迎來到鑫磊磁電有限公司!

                  全國熱線電話:

                  +86 18351670035

                  常見問題
                  您所在的位置:首頁 > 新聞動態 > 常見問題

                  氣相沉積釹鐵硼防護的技術是什么

                  作者:admin 來源: 發布日期:2021.04.20 10:15
                    據鑫磊磁電小編了解,日本某些釹鐵硼磁鐵生產商采用熱蒸發和熱噴涂相結合的方法,在釹鐵硼表面沉積金屬鋁進行防護,目前國內尚未有單位掌握這項技術。
                  氣相沉積釹鐵硼防護的技術是什么
                   
                  長期來看,物理氣相沉積技術(PVD),如磁控濺射、離子鍍等,是一種非常好的沉積方法。

                  方法。用此工藝在釹鐵硼表面沉積金屬膜,其穩定性及鍍層/基體結合力高,致密度大,在冷熱交變環境中抗腐蝕能力強。研究表明,如果沉積過程中濺射粒子的能量足夠大,可以提高磁性矯頑力。

                  此外,釹鐵硼磁體工件的邊角對施鍍厚度的影響程度遠低于電鍍和化學鍍,而且施鍍過程不會產生污染。最近幾年,由于技術的發展,生產成本大大降低。

                  采用物理氣相法沉積可得到多種類型的鍍層,而Al鍍層是一種比較經濟的鍍層方法,是一種很有前途的先進防護技術,因此,該技術的產業化推廣研究應引起產業界和政府部門的重視。

                  金屬鍍層的物理氣相沉積工藝要解決的問題有:

                  (1)釹鐵硼磁體保護要求在器件的每一面都采用相同的鍍層,如何解決磁體在批量加工時的三維旋轉問題,保證成膜質量的一致性,既是一個工程技術問題,又是一個濺射粒子在薄膜表面運動沉積的機理問題;

                  燒結釹鐵硼永磁體由于生產過程中表面和內部有大量氣孔,需要研究磁體結構形態對濺射層的影響,提高其結合力;

                  (3)高能量濺射原子在工件表面可達到一定深度,在磁體表面形成磁疇,提高了磁疇的矯頑力,可以通過釘扎機理及其對磁性的影響來控制和優化磁體性能;

                  (4)金屬膜的物理氣相沉積腐蝕機理的研究;

                  降低物理氣相沉積規模工藝的成本,提高其市場競爭力,并替代或部分替代現有環境和資源負荷較大的電鍍釹鐵硼工藝,鑫磊磁電小編認為將是該領域的長期研究目標。

                  精品毛卡卡1卡2卡3麻豆